日本dip評估裝置（膜厚計）AFW-100W
日本dip評估裝置（膜厚計）AFW-100W
評估裝置（膜厚計）
建議將反射光譜膜厚計用于硬涂層等膜厚測量應用。
[機理]當
用光照射樣品時，取決于膜的厚度，它顯示出*的光譜。膜表面上反射的光與穿過膜并在基板表面上反射的光相互干擾。當光的相位匹配時，強度增加，而當光的相位偏移時，強度降低。反射法是通過分析該光譜來測量膜厚的方法。
[優點]-
與SEM和測針型輪廓儀不同，無需接觸即可進行測量。
-與橢偏儀相比，價格低廉且易于使用。
將來也可以將其安裝在量產設備中。
| 模型 | AFW-100W |
|---|---|
| 用 | 一般膜厚 |
| 設備配置 | 單元本體，測量架，2分支光纖（1.5m），PC |
| 測量波長范圍 | 380-1050納米 |
| 膜厚測量范圍 | 100nm?1μm（曲線擬合法） |
| 1μm至60μm（FFT） | |
| 測量重現性 | 0.2％-1％（取決于膠片質量） |
| 測量光斑直徑 | 約7mm |
| 光源 | 12V-50W鹵素燈 |
| 測量理論 | 曲線擬合法/ FFT法 |
| 外形尺寸（mm） | 尺寸支架：W150 x D150 x H115 |
| 機身：W230 x D230 x H135 | |
| 大概重量 | 5.5kg *不包括PC |
| 公用事業 | AC100V 50/60赫茲 |
| 轟天猛將 | 鹵素燈 |
測量工作量
從傳感器正下方的深度尺寸（黃色箭頭）：
可以測量126毫米8英寸晶圓。
顯微分光膜測厚儀
通過使用顯微鏡，可以測量過去無法測量的具有不規則性的電子元件和曲面透鏡。
| 名稱 | 顯微分光膜測厚儀 |
|---|---|
| 設備配置 | 顯微鏡，機身，光纖（1m），PC |
| 顯微鏡 | 奧林巴斯金相顯微鏡 |
| 測量波長范圍 | 380-700納米 |
| 膜厚測量范圍 | 50nm-1.5μm（C / F） |
| 1.5μm至50μm（FFT） | |
| 測量重現性 | 0.2％-1％（取決于膠片質量） |
| 測量光斑直徑 | Φ6μm至Φ120μm |
| 光源 | 12V-100W鹵素燈 |
| 測量理論 | 曲線擬合法/ FFT法 |
| 外形尺寸（mm） | 顯微鏡：W317.5 x D602 x H480 |
| 機身：W230 x D230 x H135 | |
| 大概重量 | 25kg *不包括PC |
| 公用事業 | AC100V 50/60赫茲 |
| 轟天猛將 | 鹵素燈 |
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