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    X射線熒光測量儀 XDV ® -μ WAFER

    X射線熒光測量儀 XDV ® -μ WAFER

    更新日期:2024-05-14

    訪問量:1063

    廠商性質:經銷商

    生產地址:

    簡要描述:
    X射線熒光測量儀 XDV &#174; -μ WAFER
    FISCHERSCOPE &#174; X 射線 XDV &#174; -μ 晶圓
    它是一種高性能熒光X射線測量設備,配備了多毛細管光學元件,專門設計用于自動測量晶片的膜厚和材料分析。

    X射線熒光測量儀 XDV ® -μ WAFER

    X射線熒光測量儀 XDV ® -μ WAFER

    日本進口fischerX射線熒光測量儀 XDV ® -μ WAFER

    特征

    • 專門設計的自動晶圓薄膜厚度測量和材料分析模型
    • 配備創新的多毛細管透鏡,可以在非常小的測量點中獲得較大的激發強度。

    主要規格

    它是一種高性能熒光X射線測量設備,配備多毛細管透鏡,專門設計用于自動測量晶片的膜厚和材料分析。

    模型XDV-μ晶圓
    測量元件范圍鋁 (13) -U (92)
    X射線探測器硅漂移探測器 (SDD)
    X射線管微調焦管
    初級過濾器4種(可切換)
    X射線光學系統多毛細管透鏡 Φ20µm(選項 Φ10µm)
    車身尺寸680 x 900 x 690mm(寬x深x高)
    晶圓尺寸兼容 6、8 和 12 英寸
    能量消耗高達 120W

    主要應用

    • 電子行業、半導體行業等的晶圓測量(可測量Φ300mm的晶圓)
    • 分析 0.1 µm 以下的 Au 和 Pd 薄膜涂層
    • 質量控制中的自動測量等
    • 多層涂層的測量

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