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    日本uv-asumi研發用掃描型準分子輻照裝置

    日本uv-asumi研發用掃描型準分子輻照裝置

    更新日期:2024-05-15

    訪問量:1477

    廠商性質:經銷商

    生產地址:

    簡要描述:
    日本uv-asumi研發用掃描型準分子輻照裝置
    它是一種將主波長為 172 nm 的準分子照射單元、掃描臺和臭氧分解裝置集成在一起的設備,只需 100 V 電源即可進行簡單安全的準分子表面改性實驗。

    日本uv-asumi研發用掃描型準分子輻照裝置

    它是一種將主波長為 172 nm 的準分子照射單元、掃描臺和臭氧分解裝置集成在一起的設備,只需 100 V 電源即可進行簡單安全的準分子表面改性實驗。

    【特征】

    • 掃描階段可以處理比以前更大的區域。

    • 配備臭氧分解裝置,無需排氣設備。

    • 日本uv-asumi研發用掃描型準分子輻照裝置

    研發用掃描型準分子輻照裝置
    模型ASM86準分子
    發射波長172nm
    待處理對象W86mm x D120mm 以下,厚度 40mm 以下
    照射距離調整帶有用于調節的實驗室千斤頂(可變照射距離從 0 到 40 mm)
    外形尺寸機身:(W) 432 mm x (D) 510 mm x (H) 520.5 mm(不包括突出部分)
    大約重量約 25 kg(主體 20 kg,照射單元 4.8 kg)
    機身材質SUS304 / A5052P / SPCC
    輻照單元
    燈具制造商濱松光電株式會社制造
    模型平面準分子 EX-86U L13129
    輻照強度65mW/cm2
    照射面尺寸推薦 86mm x 40mm
    準分子有效照射距離 5mm 以內
    冷卻方式強制風冷
    運輸科
    表材A5052P(帶對齊狹縫)
    遮光罩PVC(UV cut黃色)
    處理速度0.1mm/秒-120mm/秒
    加工活動范圍240mm
    其他
    觸控面板4英寸單色觸摸屏
    食譜數量20個配方(加工速度和照射時間可設置)
    監控功能具有當前速度/當前位置/剩余時間顯示功能
    臭氧排氣設備內置臭氧催化劑(強制風扇排氣)
    公用事業AC100V 50 / 60Hz 400VA




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